IP rights

HNU-EBL has about 50,000 lines of C++/Python codes. HNU-EBL is protected by the following intellectual property (IP) rights:

Patent

[1] 刘杰，姚文泽，侯程阳 等， 一种基于神经网络的电子束邻近效应矫正方法，中国发明专利，CN111538213B，2020/04/27.Download
[2] 刘杰，姚文泽，刘薇 等，大规模电子束曝光版图的高精度邻近效应快速矫正方法，中国发明专利，CN111965936A，2020/11/20.Download
[3] 刘杰，姚文泽，徐宏成 等，一种基于二维快速傅里叶变换的电子束曝光邻近效应矫正方法，中国发明专利，CN112987514A，2021/06/18.Download
[4] 刘杰，姚文泽，赵浩杰 等，一种电子束光刻邻近效应矫正版图压缩方法，中国发明专利，202111316982.1，2021/11/09.Download
[5] 刘杰，赵浩杰，姚文泽 等，一种基于快速多极子方法的电子束光刻邻近效应校正版图能量沉积计算方法，中国发明专利，202210044985.2，2022/01/15.Download
[6] 刘杰，徐宏成，姚文泽 等，一种基于边缘迭代的电子束光刻剂量形状校正方法，中国发明专利，CN 114675508B，2022/04/13.Download
[7] 刘杰，徐宏成，姚文泽 等，一种基于遗传算法的电子束光刻能量沉积分布拟合方法，中国发明专利，CN 114969622B，2022/06/01.Download
[8] 刘杰，赵浩杰，姚文泽 等，一种大规模并行电子束光刻邻近效应矫正版图能量沉积计算方法，中国发明专利，202211207440.5，2022/09/30.Download
[9] 刘杰，姚文泽，杨雨洁 等，一种提升掩模曝光效率的掩模晶圆协同优化方法，中国发明专利，202211269637.1，2022/10/18.Download
[10] 刘杰，赵浩杰，张思媛 等，一种面向曼哈顿版图电子束光刻能量沉积密度分布计算的高效方法，中国发明专利，202311556188.3，2023/11/21.Download
[11] 刘杰，钟晓扬，姚康沛 等， 一种求解电子束光刻温度场的高速计算方法，中国发明专利，202311556470.1，2023/11/21Download
[12] 刘杰，姚康沛，马文涛 等， 一种面向电子束光刻荷电效应计算的高效方法，中国发明专利，202311566270.4，2023/11/22Download
[13] 刘杰，杨雨洁，赵浩杰 等， 一种面向曼哈顿版图的电子束光刻邻近效应混合校正算法，中国发明专利，202410723007.X，2024/06/05Download

Software Copyright

[1] 刘杰 等，基于 SaaS 模式的电子束曝光仿真与修正软件 #2020SR1221118 2020/06/20Download
[2] 刘杰 等，电子束光刻邻近效应矫正软件 #2020SR0592524 2020/01/10Download
[3] 刘杰 等，GDSII 文件可视化软件 #2021SR1092499 2021/05/21Download
[4] 刘杰 等，电子束光刻仿真计算 EDA 软件V1.0 #2021SR1203213 2021/05/20Download
[5] 刘杰 等，电子束光刻仿真计算 EDA 软件V2.0 #11621309 2022/09/15Download